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4n cible de pulvérisation cathodique

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cible métallique
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Optical Coating Materials

Produits entité

Personnalisé par tirage cible de pulvérisation en métal rotatif Si
304 SS / 316L pulvérisation cathodique magnétron en acier inoxydable coa ...
PV solaire et l'industrie du chauffage 99,999% de goudron de pulvérisation cathodique ...
Le moniteur à écran plat industrie cible en laiton revêtement ...
la taille de grain uniforme de haute pureté de 99,8% ~ 99,99% en arc tita ...
bonne compacité> 99% (pas porasity) 8020wt% ch nickel ...
10% en poids d'indium ITO verre sputteri magnétron d'oxyde d'étain ...
haute purity99.8% ~ 99,99% en alliage d'aluminium et de silicium Sput ...

4n cibles - Fabricants Sputtering, usine, fournisseurs Chine

4n Sputtering Target, , , , 4n Sputtering Target,

L4000mm * * W400mm T40mm avec un trou ou l'étape bo Si + Cu ...

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Alluter étend le plan des capacités en 2017-2018

Alluter société a été l'expansion des capacités de production cible rotative en Chine le oct 2017. L'expansion augmentera la capacité de 80% dans l'usine du Guizhou. La capacité accrue permettra Alluter de soutenir la rapide g ...

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