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99,99 Tial Cible de pulvérisation

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cible métallique
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Optical Coating Materials

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Personnalisé par tirage cible de pulvérisation en métal rotatif Si
304 SS / 316L pulvérisation cathodique magnétron en acier inoxydable coa ...
PV solaire et l'industrie du chauffage 99,999% de goudron de pulvérisation cathodique ...
Le moniteur à écran plat industrie cible en laiton revêtement ...
la taille de grain uniforme de haute pureté de 99,8% ~ 99,99% en arc tita ...
bonne compacité> 99% (pas porasity) 8020wt% ch nickel ...
10% en poids d'indium ITO verre sputteri magnétron d'oxyde d'étain ...
haute purity99.8% ~ 99,99% en alliage d'aluminium et de silicium Sput ...

99,99 Tial Target - Fabricants Sputtering, usine, fournisseurs Chine

99.99 Tial Sputtering Target, , , , 99.99 Tial Sputtering Target,

TiAl cible ALT2017016TIAL

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Alluter étend le plan des capacités en 2017-2018

Alluter société a été l'expansion des capacités de production cible rotative en Chine le oct 2017. L'expansion augmentera la capacité de 80% dans l'usine du Guizhou. La capacité accrue permettra Alluter de soutenir la rapide g ...

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