ที่กำหนดเองโดยการวาด Zrconium magnetron sputtering เป้าหมายเคลือบ
คำอธิบายสั้น:
- กระบวนการละลายสูญญากาศและ HIP
- purity99.8 สูง% ~ 99.999%
- ความเป็นปึกแผ่นดี> 99% (ไม่ porasity)
- ขนาดเม็ดเครื่องแบบ
- 3.2Ra พื้นผิว
- ราคาที่แข่งขันและจัดส่งที่รวดเร็ว
01: โค้ง Dia100 * 40mm 02: สี่เหลี่ยมผืนผ้า / ระนาบ L4000mm * W400mm * T40mm มีหลุมหรือขั้นตอนที่ 03: กระบอก: L3987 เป้าหมายหมุน * ID125 * OD159mm, L3191 * ID125 * OD159mm 04: พันธะทองแดงสนับสนุนแผ่น 05: ผงเม็ด 06: ที่กำหนดเองโดยการวาด
รายละเอียดผลิตภัณฑ์
Tags สินค้า
ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์
โค้ง Dia100 * 40mm
สี่เหลี่ยมผืนผ้า / ระนาบ L4000mm * * * * * * * * W400mm T40mm มีหลุมหรือขั้นตอน
กระบอก: L3987 เป้าหมายหมุน * * * * * * * * ID125 OD159mm, L3191 * * * * * * * * OD159mm ID125
พันธะทองแดงสนับสนุนแผ่น 05: ผงเม็ด
ที่กำหนดเองโดยการวาด
ข้อมูลโลจิสติก
สูญญากาศถุงพีวีซีสำหรับแต่ละ pice, PE และไม้รมควันแพคเกจกล่อง
ใบสมัคร
1: แบนอุตสาหกรรมเคลือบดิสเพลย์
2: เครื่องมือและอุตสาหกรรมเคลือบตกแต่ง
3: กระจกสถาปัตยกรรม / อุตสาหกรรมกระจกรถยนต์
4: ข้อมูล Optical / อุตสาหกรรมการจัดเก็บข้อมูลแม่เหล็ก
5: อุตสาหกรรมการสื่อสารออปติคอล
6: พลังงานแสงอาทิตย์ PV และอุตสาหกรรมการทำความร้อน
