+86-755-83668990
wfen_452@alluter.com
ພາສາອັງກິດ
ຫນ້າທໍາອິດ
ຜະລິດຕະພັນ
ເປົ້າຫມາຍໂລຫະ
ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ
ເປົ້າຫມາຍ oxide
Optical Coating Materials
ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ
Profile
ທັດສະນະໂຮງງານຜະລິດ
ວັດທະນະທໍາຂອງອົງກອນ
ສະຫນັບສະຫນູນ
ການບັນຈຸ
ຄວາມອາດສາມາດ
ໃບຢັ້ງຢືນ
ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ
ວີດີໂອ
ວີດີໂອບໍລິສັດ
ຜະລິດຕະພັນວິດີໂອ
FAQs
ຫນ້າທໍາອິດ
ຜະລິດຕະພັນ
ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ
ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ
ຄວາມເປັນປຶກແຜ່ນດີ> 99% (ບໍ່ porasity) nickel ເປົ້າຫມາຍ chromium sputtering 8020wt%
AlNd 97: 3WT ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ% magnetron ເຄືອບ sputtering
10WT% ເປົ້າຫມາຍ ITO ແກ້ວ Indium tin oxide magnetron ເຄືອບ sputtering
PV ແສງຕາເວັນແລະອຸດສາຫະກໍາຄວາມຮ້ອນໂມລິບດີນໍາ Niobium ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ sputtering
purity99.8 ສູງ% ~ 9999% ອະລູມິນຽມຊິລິຄອນເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ sputtering
NIV 97: 3WT ເປົ້າຫມາຍໂລຫະປະສົມ% Nickel vanadium sputtering
Tial ALT2017016TIAL ເປົ້າຫມາຍ
30: 70at% Aluminum Chromium ໂລຫະປະສົມ magnetron ເປົ້າຫມາຍເຄືອບ sputtering
WhatsApp Online Chat !
English
Lao
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Chinese(CN)
