+86-755-83668990
wfen_452@alluter.com
ఇంగ్లీష్
హోమ్
ఉత్పత్తులు
మెటల్ లక్ష్యం
మిశ్రమం లక్ష్యం
ఆక్సైడ్ లక్ష్యం
Optical Coating Materials
మా గురించి
ప్రొఫైల్
ఫ్యాక్టరీ టూర్
కార్పొరేట్ సంస్కృతి
మద్దతు
ప్యాకింగ్
కెపాసిటీ
యోగ్యతాపత్రాలకు
మమ్మల్ని సంప్రదించండి
వీడియో
సంస్థ వీడియో
ఉత్పత్తులు వీడియో
తరచుగా అడిగే ప్రశ్నలు
హోమ్
ఉత్పత్తులు
మిశ్రమం లక్ష్యం
మిశ్రమం లక్ష్యం
మంచి నిబిడత> 99% (ఏ porasity) 8020wt% నికెల్ క్రోమియం sputtering లక్ష్యం
AlNd 97: 3wt% ధాతు మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం
10WT% ITO గ్లాస్ ఇండియమ్- టిన్ ఆక్సైడ్ మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం
సౌర PV మరియు తాపన పరిశ్రమ మాలిబ్డినం niobium ధాతు sputtering లక్ష్యం
అధిక purity99.8% ~ 99.99% సిలికాన్ అల్యూమినియం మిశ్రమం sputtering లక్ష్యం
ఎన్ ఐ 97: 3wt% నికెల్ వెనేడియం ధాతు sputtering లక్ష్యం
TiAl లక్ష్యం ALT2017016TIAL
30: 70at% అల్యూమినియం క్రోమియం మిశ్రమం మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం
WhatsApp Online Chat !
English
Telugu
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Chinese(CN)
