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Customized durch Ziehen Zieldreh Si Metallsputtern
304 SS / 316L Edelstahl-Magnetron-Sputtern coa ...
Solar-PV und Heizungsindustrie 99,999% Sputter-Teer ...
Das Flat-Panel-Display-Beschichtungsindustrie Messing Ziel ...
einheitliche Korngröße hohe Reinheit 99,8% ~ 99,99% arc tita ...
gute Kompaktheit> 99% (keine porasity) 8020wt% Nickel ch ...
10 Gewichts-% ITO-Glas Indiumzinnoxid Magnetron sputteri ...
Hoch purity99.8% ~ 99,99% Silizium-Aluminium-Legierung SPUT ...

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Hoch purity99.9% ~ 99,95% Kobalt-Legierung Magnetronsputtern Beschichtungstarget
Wettbewerbsfähige Preise und schnelle Lieferung hohe Reinheit von 99,999% Poly-Si-Ziel
gleichmäßige Korngröße mit hohen Reinheit 99,8% ~ 99,99% arc Titantarget
hohe Reinheit 99,999% Silicon Magnetron-Sputter-Beschichtungstarget
Die Flachbildschirms Beschichtungsindustrie Verstecktes Ziel Kupfer Sputtertarget
Customized durch Ziehen Zieldreh Si Metallsputtern
Solar-PV und Heizungsindustrie 99,999% Sputtertargets aus Aluminium Ziel
L4000mm W400mm * * T40mm mit Loch oder Schritt Si + Cu Bindemetall Sputtertarget
304 SS / 316L Edelstahl Magnetron-Sputter-Beschichtungstarget
Vakuumschmelzprozeß HIP Sputter arc Chromtarget
Kundenspezifisch von Zrconium Magnetron-Sputtern Beschichtungstarget Zeichnung
hohe Reinheit Cr + Cu Bonden Chromtarget
Magnetron-Sputter-Beschichtungsziel Nickel Sputtertarget
Hoch purty HIP gewalzten reinen Chromtargets für Beschichtungsfilm Sputtern
Magnetron-Sputter-Beschichtungstarget Tantal Sputtertarget
Vakuumschmelzverfahren & HIP planar Chromium Metall Sputtertarget
wettbewerbsfähige Preise und schnelle Lieferung Ag Silber Sputtertargets
Die Flachbildschirms Beschichtungsindustrie runde planar Cr Sputtertarget
Magnetron-Sputter-Beschichtungsziel ALT2017019C
Rotationsziel L3987 ID125 * * OD159mm Versprühen Chrom Sputter

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