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सी रोटरी धातु sputtering लक्ष्य रेखाङ्कन अनुकूलित
304 SS / 316L स्टेनलेस स्टील magnetron sputtering coa ...
सौर PV र ताप उद्योग 99,999% sputtering टार ...
फ्लैट प्यानल प्रदर्शन कोटिंग उद्योग पीतल लक्ष्य ...
वर्दी अन्न आकार उच्च शुद्धता 99,8% ~ 99.99% चाप tita ...
राम्रो compactness> 99% (कुनै porasity) 8020wt% निकल दर्पण ...
10WT% ito ग्लास ईण्डीयुम टिन ओक्साइड magnetron sputteri ...
उच्च purity99.8% ~ 99.99% सिलिकन एल्यूमीनियम मिश्र धातु sput ...

धातु लक्ष्य

उच्च purty हिप कोटिंग फिलिम लागि लक्षित sputtering शुद्ध क्रोमियम रोल्ड
magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य तन्तालम sputtering लक्ष्य
वैक्यूम पग्लिने प्रक्रिया र हिप योजनाविद्य क्रोमियम धातु sputtering लक्ष्य
प्रतिस्पर्धी मूल्य र छिटो वितरण एजी चाँदी sputtering लक्ष्य
फ्लैट प्यानल प्रदर्शन कोटिंग उद्योग राउन्ड योजनाविद्य सीआर sputtering लक्ष्य
magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य ALT2017019C
रोटरी लक्ष्य L3987 * ID125 * OD159mm क्रोमियम sputtering छिडकाव
उच्च purity99.9% ~ 99,95% कोबाल्ट मिश्र धातु magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य
प्रतिस्पर्धी मूल्य र छिटो वितरण उच्च शुद्धता 99,999% पाली सी लक्ष्य
वर्दी अन्न आकार उच्च शुद्धता 99,8% ~ 99.99% चाप टाइटेनियम लक्ष्य
उच्च शुद्धता 99,999% सिलिकन magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य
फ्लैट प्यानल प्रदर्शन कोटिंग उद्योग पीतल लक्ष्य sputtering तामा लक्षित
सी रोटरी धातु sputtering लक्ष्य रेखाङ्कन अनुकूलित
सौर PV र ताप उद्योग 99,999% sputtering लक्ष्य एल्यूमिनियम लक्ष्य
L4000mm प्वाल वा चरण सी + घन सम्बन्ध गाँसिसकेको धातु sputtering लक्ष्य संग * W400mm * T40mm
304 SS / 316L स्टेनलेस स्टील magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य
वैक्यूम पग्लिने प्रक्रिया हिप sputtering चाप क्रोमियम लक्ष्य
कोटिंग लक्ष्य sputtering Zrconium magnetron रेखाङ्कन अनुकूलित
उच्च शुद्धता सीआर + घन सम्बन्ध गाँसिसकेको क्रोमियम लक्ष्य
magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य निकल sputtering लक्ष्य

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