+86-755-83668990

wfen_452@alluter.com

ინგლისური

მთავარი
პროდუქტები
ჩვენს შესახებ
მხარდაჭერა
დაგვიკავშირდით
ვიდეო
- კომპანია ვიდეო
- პროდუქტები ვიდეო
ხშირად დასმული კითხვები

მთავარი
პროდუქტები
Metal სამიზნე

პროდუქცია კატეგორიები

Metal სამიზნე
მსუბუქი სამიზნე
Oxide სამიზნე
Optical Coating Materials

მხატვრული პროდუქცია

მორგებული აღებით Si მბრუნავი რკინის sputtering სამიზნე
304 SS / 316L უჟანგავი ფოლადის magnetron sputtering კო ...
მზის პანელები და გათბობის ინდუსტრიაში 99.999% sputtering tar ...
თხევადკრისტალიანი ჩვენების საფარი მრეწველობის სპილენძის სამიზნე ...
ერთიანი მარცვლეულის ზომა მაღალი სისუფთავის 99.8% ~ 99.99% arc tita ...
კარგი კომპაქტურობა> 99% (არ porasity) 8020wt% ნიკელი ch ...
10WT% ITO მინის Indium კალის ოქსიდი magnetron sputteri ...
მაღალი purity99.8% ~ 99.99% სილიკონი ალუმინის Sput ...

Metal სამიზნე

magnetron sputtering საფარი სამიზნე Nickel sputtering სამიზნე
მაღალი purty HIP შემოვიდა სუფთა ქრომის sputtering სამიზნე საფარი ფილმი
magnetron sputtering საფარი სამიზნე ტანტალის sputtering სამიზნე
Vacuum დნობის პროცესი & HIP planar Chromium რკინის sputtering სამიზნე
კონკურენტული ფასები და სწრაფი მიწოდება Ag ვერცხლის sputtering სამიზნე
თხევადკრისტალიანი ჩვენების საფარი მრეწველობის რაუნდი planar Cr sputtering სამიზნე
magnetron sputtering საფარი სამიზნე ALT2017019C
rotary სამიზნე L3987 * ID125 * OD159mm გამფრქვევი ქრომის sputtering
მაღალი purity99.9% ~ 99.95% Cobalt მსუბუქი magnetron sputtering საფარი სამიზნე
კონკურენტული ფასები და სწრაფი მიწოდება მაღალი სისუფთავის 99.999% poly Si სამიზნე
ერთიანი მარცვლეულის ზომა მაღალი სისუფთავის 99.8% ~ 99.99% arc ტიტანის სამიზნე
მაღალი სისუფთავის 99.999% Silicon magnetron sputtering საფარი სამიზნე
თხევადკრისტალიანი ჩვენების საფარი მრეწველობის სპილენძის მიზანში სპილენძის sputtering სამიზნე
მორგებული აღებით Si მბრუნავი რკინის sputtering სამიზნე
მზის პანელები და გათბობის ინდუსტრიაში 99.999% sputtering სამიზნე ალუმინის სამიზნე
L4000mm * W400mm * T40mm ერთად ხვრელი ან ნაბიჯი Si + Cu შემაკავშირებელ რკინის sputtering სამიზნე
304 SS / 316L უჟანგავი ფოლადის magnetron sputtering საფარი სამიზნე
Vacuum დნობის პროცესი HIP sputtering arc ქრომის სამიზნე
მორგებულია აღებით Zrconium magnetron sputtering საფარი სამიზნე
მაღალი სისუფთავის Cr + Cu შემაკავშირებელ ქრომის სამიზნე

საკონტაქტო Us

1801，Qiushi building, Zhuzilin, Futian District, Shenzhen, Guangdong,China
Phone: +86-755-83668990
E-mail: wfen_452@alluter.com
Fax: +86-755-83660661
Whatsapp: + 86-18565772108

ახალი ამბები

Alluter აფართოებს შესაძლებლობების გეგმა 2017-2018

Alluter კომპანია გაფართოების rotary სამიზნე წარმოების მოცულობა ჩინეთში Oct 2017 გაფართოების გაზრდის მოცულობა 80% Guizhou ქარხანა. ზრდას საშუალებას მისცემს Alluter მხარდასაჭერად სწრაფად გ ...

საგამოძიებო იყიდება ფასები

შეკითხვები ჩვენი პროდუქციის ან ფასები, გთხოვთ დატოვოთ თქვენი ელ და ჩვენ ვიქნებით დაუკავშირდა 24 საათის განმავლობაში.

ინტერაქტივი ფასები

© Copyright - 2010-2017: All Rights Reserved.

წერილის გაგზავნა

Alluter 销售部

WhatsApp Online Chat !