10% hm cíl oxidu ITO sklo india cín magnetronové naprašování povlak
Stručný popis:
- vakuum proces tavení a HIP
- vysoká purity99.9% ~ 99,95%
- dobrou kompaktnost> 99% (bez pórovitost)
- jednotná velikost zrna e: povrch 3.2Ra
- konkurenceschopné ceny a rychlé dodání
Detail produktu
Štítky produktu
Specifikace produktu
arc Dia100 * 40mm
obdélník / rovinný L4000mm * W400mm * T40mm, s otvorem nebo kroku
válec: rotační cíl L3987 * ID125 * OD159mm, L3191 * ID125 * OD159mm
Lepení na měděnou nosnou deskou
prášek, granule
přizpůsobit kreslení
logistický informační
vakuum PVC taška pro každý balíček box kostku, PE a vykuřování dřeva.
aplikace
1: Plochý displej nátěr průmysl
2: Tools & Decoration Coating průmysl
3: Architektonické sklo / automobilový průmysl sklo
4: Optické data / magnetické ukládání dat průmyslu
5: Optické komunikační průmysl
6: Solární PV a teplárenství
