objetivo de recubrimiento de pulverización catódica magnetrón óxido de ITO cristal de indio y estaño 10% en peso
Breve descripción:
- proceso y Hip fundición de vacío
- alta purity99.9% ~ 99,95%
- buena compacidad> 99% (sin porosidad)
- uniforme del tamaño de grano e: 3.2Ra superficie
- precio competitivo y entrega rápida
Detalle del producto
Etiquetas de productos
Especificaciones del producto
arco Dia100 * 40mm
rectángulo / planar L4000mm * W400mm * T40mm, con el agujero o paso
cilindro: rotativo L3987 objetivo * ID125 * OD159mm, L3191 * ID125 * OD159mm
Vinculación en la placa de respaldo de cobre
polvo, gránulo
personalizado dibujando
información logística
bolsa de PVC de vacío para cada pice, PE y madera fumigación paquete de la caja.
Solicitud
1: la industria de recubrimiento de visualización de panel plano
2: Herramientas y la industria de revestimientos de decoración
3: arquitectura de vidrio / industria del vidrio de automoción
4: Los datos ópticos / de datos magnéticos industria de almacenamiento
5: industria de la comunicación óptica
6: PV Solar y la industria de calefacción
