10％的氧化ITO玻璃铟锡磁控溅射镀膜靶
简短的介绍：
- 真空熔炼工艺及HIP
- 高purity99.9％〜99.95％
- 致密性好> 99％（无孔隙率）
- 均匀晶粒尺寸：表面3.2Ra
- 最有竞争力的价格和快速交货
产品明细
商品标签
产品规格
多弧Dia100 *40毫米
矩形/平面L4000mm * W400mm * T40mm，有孔或台阶
圆柱靶：旋转靶L3987 * ID125 * OD159mm，L3191 * ID125 * OD159mm
绑定在铜背板
粉末，颗粒
按图纸订做
物流信息
每个产品真空PVC袋，PE和熏蒸木箱包装。
应用
1：平板显示器镀膜工业
2：工具，装饰镀膜行业
3：建筑玻璃/汽车玻璃行业
4：光数据/磁数据存储行业
5：光通信行业
6：太阳能光伏和供热行业
