10% în greutate oxid țintă OIT sticlă indiu staniu magnetron acoperire sputtering
Scurta descriere:
- proces de topire vacuum & HIP
- ridicat purity99.9% ~ 99,95%
- compactitatea bun> 99% (fără porozitate)
- uniformă granulația e: 3.2Ra suprafață
- preț competitiv și de livrare rapida
Detaliile produsului
Tag-uri produs
specificațiile produsului
arc Dia100 * 40mm
dreptunghi / planare L4000mm * W400mm * T40mm, cu gaura sau etapa
cilindru: rotativ L3987 țintă * ID125 * OD159mm, L3191 * ID125 * OD159mm
Lipirea pe placa suport de cupru
pulbere, granule
personalizate prin tragere
Informații Logistica
vid sac PVC pentru fiecare pice, PE și lemn fumigație pachet cutie.
cerere
1: panou plat Industria acoperire display
2: Instrumente și industria materialelor de acoperire de decorare
3: sticlă de arhitectură / industria sticlei auto
4: Date optice / industria de stocare a datelor magnetice
5: industria de comunicare optică
6: Solar PV și industria de încălzire
